高纯镍及镍合金靶材是制造半导体芯片硅化物过程的关键材料，在半导体二极管、金属氧化物场效应管以及集成电路等领域具有广泛的应用，应用范围涉及通信、汽车、计算机及便携式电器、工业、航天、家电等各种领域。
贵金属溅射靶材（Au、Pt） Precious metals sputtering targets(Au、Pt)
光伏太阳能用溅射靶材
Sputtering
targets for Photovoltaic devices
·高纯钼溅射靶材 High
purity molybdenum sputtering targets
·铜铟镓硒溅射靶材 CIGS
sputtering targets
平面显示及玻璃行业用溅射靶材
Sputtering targets for Flat Panel Displays and Glass industry
高纯银溅射靶 High
purity silver sputtering targets
钼合金溅射靶材 Molybdenum
alloy sputtering targets
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